Revolutionierung industrieller Reinigungsprozesse für eine nachhaltige Zukunft.
Allgemeiner Equipment Cleaner
Dieses hochwirksame Produkt entfernt schonend und schnell Photoresists und Bondingmaterial. Es eignet sich neben der Wafer-Reinigung auch für die Catch-Cup-Reinigung und die Systemreinigung. Es kann auch bei der Teilereinigung von Spin-Coatern eingesetzt werden. Mit seinem Korrosionsschutz ist es besonders für empfindliche Oberflächen geeignet.
Mit seiner wasserbasierten Formulierung und der patentierten intelligent fluids Technologie entfernt der Reinigre effizient Verunreinigungen und Rückstände ohne aggressives chemisches Auflösen und gewährleistet so Sicherheit und Innovation. Das Produkt ist nicht entflammbar und besonders benutzerfreundlich.
Hohe Reinigungsleistung
Erleben Sie mit unserem Entferner eine neue Stufe der Reinigung und sorgen Sie dafür, dass Ihre Oberflächen in optimalem Zustand bleiben.
Für empfindliche Oberflächen
Durch seinen Korrosionsschutz ist dieses Produkt besonders für alle empfindlichen Oberflächen geeignet.
Benutzerfreundlich
Das Produkt ist nicht brennbar und benutzerfreundlich und entfernt sicher eine Vielzahl von Verunreinigungen in der Halbleiterindustrie.