Revolutionierung industrieller Reinigungsprozesse für eine nachhaltige Zukunft.
Equipment Cleaner für die Reinigung in Semifabs
Dieses hervorragende Produkt entfernt viele organische Verunreinigungen in der Halbleiter- und Displayindustrie (z.B. Entgasungskammerreinigung, Ofenreinigung, allgemeine Beschichterreinigung), es eignet sich sogar zur Entfernung zentimeterdicker Fotolackschichten von
Auffangbehältern von Beschichtungsanlagen. Das Reinigungsprodukt wirkt bereits bei einer niedrigen und ressourcenschonenden Prozesstemperatur von 20 - 40 °C und zeichnet sich durch eine sehr gute Abspülbarkeit aus, was es zu einem Ersatz für Lösungsmittel wie NMP, Aceton o.ä. macht.
Mit seiner wasserbasierten Formulierung und der patentierten intelligent fluids Technologie entfernt der Reinigre effizient Verunreinigungen und Rückstände ohne aggressives chemisches Auflösen und gewährleistet so Sicherheit und Innovation. Das Produkt ist nicht entflammbar und besonders benutzerfreundlich.
Hohe Reinigungsleistung
Erleben Sie mit unserem Entferner eine neue Stufe der Reinigung und sorgen Sie dafür, dass Ihre Oberflächen in optimalem Zustand bleiben.
schont die Ressourcen
Ressourcenschonende Lösung, wirksam bei 20-40°C, ersetzt Lösungsmittel wie NMP, Aceton in Halbleiterreinigungsprozessen.
Benutzerfreundlich
Nicht brennbar und benutzerfreundlich, entfernt das Produkt sicher dicke Fotolackschichten und organische Verunreinigungen in der Halbleiterindustrie.