Revolutionierung industrieller Reinigungsprozesse für eine nachhaltige Zukunft.
Photoresist Stripper mit Fokus auf kurzen Prozesszeiten
Eine leistungsstarke und umweltfreundliche Lösung, die entwickelt wurde, um positive und negative Photoresist-Schichten mit höchster Effizienz zu entfernen. Dieses innovative Produkt bietet eine sichere und wirksame Methode zum Ablösen von Fotolacken von verschiedenen Substraten und gewährleistet eine optimale Oberflächenvorbereitung für nachfolgende Verarbeitungsschritte. Es eignet sich für den Einsatz in der LED-, PCB-Platten-, MEMS- und verwandten Display-Herstellung. Es kann Fotolackschichten im sub-µ-Bereich bis zu > 250 µm durchdringen, fragmentieren und abheben.
Mit seiner wasserbasierten Formulierung und der patentierten intelligent fluids Technologie entfernt es effizient Verunreinigungen und Rückstände ohne aggressives chemisches Auflösen und gewährleistet so Sicherheit und Innovation. Es ist nicht entflammbar und funktioniert bei niedrigeren Prozesstemperaturen.
Kürzere Prozesszeiten
Effizienter Fotolack-Stripper für schnelle Ergebnisse: Speziell entwickelt für schnelle Prozesszeiten.
Höhere Reinigungsleistung
Erleben Sie ein neues Niveau der Reinigung für verschiedene Substrate und stellen Sie sicher, dass Ihre Oberflächen ihren optimalen Zustand behalten.
niedrigere Prozesstemperaturen
Beseitigt sicher und schnell diverse Flussmittelrückstände von verschiedensten Teilen bei niedrigeren Anwendungstemperaturen.