Revolutionierung industrieller Reinigungsprozesse für eine nachhaltige Zukunft.
Photoresist Stripper für Hochleistungsanwendungen
Diese Powerfluid wurde speziell für schwierige Beschichtungen wie Wachs- oder Teerschichten entwickelt. Es löst selbst die hartnäckigsten Rückstände und kann sowohl für die Reinigung von Wafern als auch von Leiterplatten verwendet werden.
Dieses wasserfreie intelligent fluid hat hohe Anwendungstemperaturen und entfernt damit effizient Verunreinigungen und Rückstände. E ist nicht entflammbar.
Für schwierige Beschichtungen
Photoresist Stripper für schwierige Aufgaben, speziell für anspruchsvolle Beschichtungen wie Wachs oder Teer.
Vielzahl an Anwendungen
Ideal für die Reinigung von Wafern und Leiterplatten, bietet eine effektive Rückstandsentfernung bei hohen Anwendungstemperaturen.
Hochleistungs-Photoresist Stripper
Dieses Powerfluid wurde für Hochleistungsanwendungen entwickelt und entfernt selbst die hartnäckigsten Rückstände.